高真空磁控濺射鍍膜機
設備基本配置說明
專業團隊研發制造，由真空系統、卷繞系統、磁控靶濺射系統、控制系統等部分組成，可實現6U薄膜上濺射鍍銅、鋁、鉛、錫、銀、鉻、鈦等，可以在薄膜、布匹、海綿、銅箔、鋁箔、紙張等多種卷材表面精確鍍膜。
真 空 室：圓形或方形
鍍 材：銅靶、鋁靶、合金靶、陶瓷靶材等。
用 途：電子屏蔽膜、電子導電膜、光學膜等。
蒸 發 源：平面靶、圓柱靶，配備等離子清洗源
控 制 系 統：西門子、三菱等多種集成控制系統，人機界面，PLC自動控制，高精度交流伺服電機傳動，恒張力卷繞，控制更穩定。
真 空 系 統：采用名牌分子泵、羅茨泵、滑閥泵等多種抽氣系統，抽氣速度更快，更節能環保；配置超低溫冷阱，適用于任何氣候環境；配置膜厚在線檢測系統，可即時檢測和顯示膜層厚度。
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