2022-05-28 16:01:09
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真空鍍膜技術,簡單地來說就是在真空環境下,利用蒸發、濺射等方式發射出膜料粒子,沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上形成鍍膜層。它的主要方法包括以下幾種:
其原理是在真空條件下,用蒸發器加熱膜料,使其氣化或升華,蒸發粒子流直接射向基片,并在基片上沉積形成固態薄膜的技術。
濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上高壓電,激發輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極靶材,使其射出膜料粒子,并沉積到基片上形成膜層。
離子鍍膜通常指在鍍膜過程中會產生大量離子的鍍膜方法。在膜的形成過程中,基片始終受到高能粒子的轟擊,膜層強度和結合力非常強。
真空卷繞鍍膜是一種利用各種鍍膜方法,在成卷的柔性薄膜表面上連續鍍膜的技術,以實現柔性基體的一些特殊功能性、裝飾性屬性。
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